====== Laboratório de Filmes Finos ======
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Este é o sítio do Laboratório de Filmes Finos, situado no Instituto de Física da Universidade Federal Fluminense. \\

|**Coordenador**: Prof. Dante F.Franceschini Filho|
|**Equipamentos**: Sistema para deposição de filmes finos por meio de PECVD (“Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition”), com a determinação in-situ das constantes ópticas dos filmes em crescimento reator tubular com forno de 1200oC para produção de nanotubos por carbono por pirólise de hidrocarboneto.  Mini-espectrômetro de Raman para caracterização de nanotubos de carbono. |
|**Linhas de pesquisa**: Metrologia interferométrica de filmes de carbono amorfo depositados por plasma. Produção e caracterização de filmes de carbono amorfo hidrogenado por plasmas de catodo oco. Produção de nanotubos de carbono por pirólise de hidrocarboneto e ablação por laser de grafite. Produção de filmes finos duros de carbono por ablação por laser.|