Este site encontra-se em construção.
Este é o sítio do Laboratório de Filmes Finos, situado no Instituto de Física da Universidade Federal Fluminense.
| Coordenador: Prof. Dante F.Franceschini Filho |
| Equipamentos: Sistema para deposição de filmes finos por meio de PECVD (“Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition”), com a determinação in-situ das constantes ópticas dos filmes em crescimento reator tubular com forno de 1200oC para produção de nanotubos por carbono por pirólise de hidrocarboneto. Mini-espectrômetro de Raman para caracterização de nanotubos de carbono. |
| Linhas de pesquisa: Metrologia interferométrica de filmes de carbono amorfo depositados por plasma. Produção e caracterização de filmes de carbono amorfo hidrogenado por plasmas de catodo oco. Produção de nanotubos de carbono por pirólise de hidrocarboneto e ablação por laser de grafite. Produção de filmes finos duros de carbono por ablação por laser. |