Diferenças
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| Este é o sítio do Laboratório de Filmes Finos, situado no Instituto de Física da Universidade Federal Fluminense. \\ | Este é o sítio do Laboratório de Filmes Finos, situado no Instituto de Física da Universidade Federal Fluminense. \\ | ||
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| + | |**Coordenador**: Prof. Dante F.Franceschini Filho| | ||
| + | |**Equipamentos**: Sistema para deposição de filmes finos por meio de PECVD (“Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition”), com a determinação in-situ das constantes ópticas dos filmes em crescimento reator tubular com forno de 1200oC para produção de nanotubos por carbono por pirólise de hidrocarboneto. Mini-espectrômetro de Raman para caracterização de nanotubos de carbono. | | ||
| + | |**Linhas de pesquisa**: Metrologia interferométrica de filmes de carbono amorfo depositados por plasma. Produção e caracterização de filmes de carbono amorfo hidrogenado por plasmas de catodo oco. Produção de nanotubos de carbono por pirólise de hidrocarboneto e ablação por laser de grafite. Produção de filmes finos duros de carbono por ablação por laser.| | ||
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